| Code | Titulaire(s) | Co-Titulaire(s) | Suppléant(s) et autre(s) |
|---|---|---|---|
| S-CHIM-120 |
|
| Langue d’enseignement | Langue d’évaluation | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Période d’enseignement |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Français | Français | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | Q1 |
Contenu de l'AA
Description du milieu plasma, caractéristiques des plasmas froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces
Supports principaux non reproductibles
Transparents contenant les figures à disposition
Support complémentaires non reproductibles
Sans objet
Autres références conseillées
B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press
Mode d'enseignement
- Face à face
Types d'évaluation du Q1
- Examen oral
Commentaire sur l'évaluation Q1
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Types d'évaluation Q2
- Néant
Commentaire sur l'évaluation Q2
Sans objet
Types d'évaluation du Q3
- Examen oral
Commentaire sur l'évaluation Q3
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Commentaire sur l'évaluation Q1ratt. B1BA
Sans objet
Types d'activités
- Cours (cours magistraux; conférences)
- Préparations, travaux, recherches d'information