Programme d’études 2020-2021 | English | ||
Technologie plasma pour le traitement des matériaux | |||
Unité d’enseignement du programme de Master en sciences chimiques, à finalité approfondie à la Faculté des Sciences |
Les étudiants sont invités à consulter les fiches ECTS des AA pour prendre connaissance des modalités d’évaluation spéciales Covid-19 éventuellement prévues pour la fin du Q3 |
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Code | Type | Responsable | Coordonnées du service | Enseignant(s) |
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US-M2-CHIMFA-013-M | UE optionnelle | SNYDERS Rony | S882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface |
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Langue d’enseignement | Langue d’évaluation | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Crédits | Pondération | Période d’enseignement |
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| Français | 15 | 12 | 15 | 0 | 0 | 3 | 3.00 | 1er quadrimestre |
Code(s) d’AA | Activité(s) d’apprentissage (AA) | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Période d’enseignement | Pondération |
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S-CHIM-120 | Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie A) | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | Q1 | |
S-CHIM-150 | Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie B) | 0 | 12 | 0 | 0 | 0 | Q1 |
Unité d'enseignement |
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Objectifs par rapport aux acquis d'apprentissage du programme
Acquis d'apprentissage UE
A l'issu du cours l'étudiant sera capable de: - Décrire les spécificités des plasma froids - Décrire le fonctionnement d'une décharge magnétron - Décrire le fonctionnement d'un procédé PECVD - Expliquer les mécanismes mis en jeu lors de la synthèse de films minces par les technologies plasma
Contenu de l'UE
Description du milieu plasma, caractéristiques des plasmas froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces
Compétences préalables
Théorie cinétique des gaz, électricité, structure de l'atome, distributions statistiques, spectre électromagnétique, phénomène de diffusion, structure cristalline des solides, caractérisation spectroscopique des surfaces
Types d'évaluations Q1 pour l'UE
Commentaire sur les évaluations Q1 de l'UE
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Types d'évaluation Q3 pour l'UE
Commentaire sur les évaluations Q3 de l'UE
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Types d'évaluation rattrapage BAB1 (Q1) pour l'UE
Commentaire sur les évaluations rattr. Q1 de l'UE
Sans objet
Types d'activités
AA | Types d'activités |
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S-CHIM-120 |
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S-CHIM-150 |
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Mode d'enseignement
AA | Mode d'enseignement |
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S-CHIM-120 |
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S-CHIM-150 |
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Supports principaux
AA | |
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S-CHIM-120 | |
S-CHIM-150 |
Supports principaux non reproductibles
AA | Supports principaux non reproductibles |
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S-CHIM-120 | Transparents contenant les figures à disposition |
S-CHIM-150 | Aucun |
Supports complémentaires
AA | |
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S-CHIM-120 | |
S-CHIM-150 |
Supports complémentaires non reproductibles
AA | Support complémentaires non reproductibles |
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S-CHIM-120 | Sans objet |
S-CHIM-150 | Aucun |
Autres références conseillées
AA | Autres références conseillées |
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S-CHIM-120 | B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press |
S-CHIM-150 | Sans objet |