Programme d’études 2018-2019English
Technologie plasma pour le traitement des matériaux
Unité d’enseignement du programme de Master en sciences chimiques, à finalité approfondie à la Faculté des Sciences
CodeTypeResponsable Coordonnées
du service
Enseignant(s)
US-M2-CHIMFA-013-MUE optionnelleSNYDERS RonyS882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface
  • SNYDERS Rony

Langue
d’enseignement
Langue
d’évaluation
HT(*) HTPE(*) HTPS(*) HR(*) HD(*) CréditsPondération Période
d’enseignement
  • Français
Français1512150033.001er quadrimestre

Code(s) d’AAActivité(s) d’apprentissage (AA) HT(*) HTPE(*) HTPS(*) HR(*) HD(*) Période
d’enseignement
Pondération
S-CHIM-120Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie A)1501500Q1
S-CHIM-150Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie B)012000Q1

Note globale : les évaluations de chaque AA donnent lieu à une note globale pour l'unité d'enseignement.
Unité d'enseignement

Objectifs par rapport aux acquis d'apprentissage du programme

  • Posséder, dans le domaine des sciences chimiques, des connaissances hautement spécialisées et intégrées, ainsi que de larges compétences prolongeant celles qui relèvent du niveau de bachelier en sciences chimiques
  • Contribuer, seuls ou en équipe, à la conduite et à la réalisation d'un projet de développement d'envergure en lien avec les sciences chimiques
    • -Pouvoir mobiliser, articuler et valoriser les connaissances et les compétences acquises
    • -Faire preuve d'autonomie et être capable de travailler seul ou en équipe
  • Gérer des travaux de recherche, de développement ou d'innovation relevant des sciences chimiques et/ou de leurs applications
    • -Etre capable d'appréhender une problématique inédite relevant des sciences chimiques
    • -Etre capable de mobiliser leurs connaissances de manière efficace, d'identifier leurs limites, de conduire une recherche méthodique et d'analyser de manière critique des informations scientifiquement valides
    • -Pouvoir proposer des solutions éventuellement innovantes à des problématiques ciblées, ce qui exige également l'écoute et le respect de chacun, la capacité d'argumenter et celle d'instaurer des débats constructifs
  • Développer et intégrer un fort degré d'autonomie
    • -Etre capable de poursuivre leur formation et d'acquérir des savoirs complémentaires et des compétences nouvelles
    • -Etre capable de s'adapter et d'évoluer dans un nouveau contexte
  • Appliquer une méthodologie scientifique de qualité
    • -Etre capable de mener une réflexion critique sur l'impact de la chimie en général et des projets auxquels ils contribuent en particulier
    • -Faire preuve de rigueur, d'autonomie, de créativité, d'honnêteté intellectuelle, de sens éthique et déontologique
  • Avoir acquis les compétences professionnelles en relation avec la finalité définissant le diplôme
    • -Etre spécialisé dans au moins un sous-domaine de la chimie
    • -Etre initié à la recherche scientifique et au monde de la recherche
    • -Pouvoir s'intégrer dans un environnement interuniversitaire et participer activement à des collaborations scientifiques
  • Contribuer, seuls ou en équipe, à la conduite et à la réalisation d'un projet de développement d'envergure en lien avec les sciences chimiques
    • -Pouvoir mobiliser, articuler et valoriser les connaissances et les compétences acquises
    • -Faire preuve d'autonomie et être capable de travailler seul ou en équipe
  • Gérer des travaux de recherche, de développement ou d'innovation relevant des sciences chimiques et/ou de leurs applications
    • -Etre capable d'appréhender une problématique inédite relevant des sciences chimiques
    • -Etre capable de mobiliser leurs connaissances de manière efficace, d'identifier leurs limites, de conduire une recherche méthodique et d'analyser de manière critique des informations scientifiquement valides
    • -Pouvoir proposer des solutions éventuellement innovantes à des problématiques ciblées, ce qui exige également l'écoute et le respect de chacun, la capacité d'argumenter et celle d'instaurer des débats constructifs

Acquis d'apprentissage UE

A l'issu du cours l'étudiant sera capable de: - Décrire les spécificités des plasma froids - Décrire le fonctionnement d'une décharge magnétron - Décrire le fonctionnement d'un procédé PECVD - Expliquer les mécanismes mis en jeu lors de la synthèse de films minces par les technologies plasma

Contenu de l'UE

Description du milieu plasma, caractéristiques des plasmas froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces

Compétences préalables

Théorie cinétique des gaz, électricité, structure de l'atome, distributions statistiques, spectre électromagnétique, phénomène de diffusion, structure cristalline des solides, caractérisation spectroscopique des surfaces

Types d'évaluations Q1 pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations Q1 de l'UE

Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.

Types d'évaluation Q3 pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations Q3 de l'UE

Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.

Types d'évaluation rattrapage BAB1 (Q1) pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations rattr. Q1 de l'UE

Sans objet

Types d'activités

AATypes d'activités
S-CHIM-120
  • Cours magistraux
  • Conférences
  • Préparations, travaux, recherches d'information
S-CHIM-150
  • Travaux de laboratoire
  • Projet sur ordinateur

Mode d'enseignement

AAMode d'enseignement
S-CHIM-120
  • Face à face
S-CHIM-150
  • Face à face

Supports principaux

AA
S-CHIM-120
S-CHIM-150

Supports principaux non reproductibles

AASupports principaux non reproductibles
S-CHIM-120Transparents contenant les figures à disposition
S-CHIM-150Aucun

Supports complémentaires

AA
S-CHIM-120
S-CHIM-150

Supports complémentaires non reproductibles

AASupport complémentaires non reproductibles
S-CHIM-120Sans objet
S-CHIM-150Aucun

Autres références conseillées

AAAutres références conseillées
S-CHIM-120B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press
S-CHIM-150Sans objet
(*) HT : Heures théoriques - HTPE : Heures de travaux pratiques encadrés - HTPS : Heures de travaux pratiques supervisés - HD : Heures diverses - HR : Heures de remédiation - Dans la colonne Pér. (Période), A=Année, Q1=1er quadrimestre et Q2=2e quadrimestre
Date de génération : 02/05/2019
20, place du Parc, B7000 Mons - Belgique
Tél: +32 (0)65 373111
Courriel: info.mons@umons.ac.be