Programme d’études | English | ||
Nanotechnologies et matériaux nouveaux | |||
Unité d’enseignement du programme de Master ingénieur civil en chimie et science des matériaux , à finalité spécialisée en science et génie des matériaux à la Faculté Polytechnique |
Code | Type | Responsable | Coordonnées du service | Enseignant(s) |
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UI-M2-IRCHSM-002-M | UE Obligatoire | VITRY Véronique | F601 - Métallurgie |
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Langue d’enseignement | Langue d’évaluation | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Crédits | Pondération | Période d’enseignement |
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| Français | 36 | 9 | 15 | 0 | 0 | 4.00 | 4.00 |
Code(s) d’AA | Activité(s) d’apprentissage (AA) | HT(*) | HTPE(*) | HTPS(*) | HR(*) | HD(*) | Période d’enseignement | Pondération |
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I-META-025 | Introduction aux nanotechnologies et matériaux nouveaux | 21 | 9 | 0 | 0 | 0 | Q1 | |
S-CHIM-120 | Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie A) | 15 | 0 | 15 | 0 | 0 | Q1 |
Unité d'enseignement | ||
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UI-M2-IRCHSM-001-M Advanced Ceramics |
Objectifs par rapport aux acquis d'apprentissage du programme
Acquis d'apprentissage UE
A l'issue du cours l'étudiant sera capable de: - Décrire les spécificités des plasma froids - Décrire le fonctionnement d'une décharge magnétron - Décrire le fonctionnement d'un procédé PECVD - Expliquer les mécanismes mis en jeu lors de la synthèse de films minces par les technologies plasma. Il sera également capable de décrire les méthodes de production des matériaux nanostructurés, tant massifs qu'en revêtements et sous forme de nanoparticules, ainsi que les propriétés de ces matériaux, et les techniques les plus couramment utilisées pour les caractériser. Il sera aussi capable de comprendre les phénomènes physiques spécifique du nanomonde et les exploiter dans les applications.
Contenu de l'UE
Description du milieu plasma, caractéristique des plasma froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces. Synthèses de nanomatériaux et de matériaux nanostructurés par diverses voies. Caractérisation des nanomatériaux et matériaux nanostructurés. Propriétés mécaniques de nanomatériaux et matériaux nanostructurés. Explications des propriétés physiques nouvelles propres aux systèmes de dimensions nanomètriques (quantification, superparamagnétisme, blocage de Coulomb, plasmon, etc...). Introduction à l'électronique moléculaire et plastique..
Compétences préalables
Sans objet
Types d'évaluations Q1 pour l'UE
Commentaire sur les évaluations Q1 de l'UE
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Types d'évaluations Q2 pour l'UE
Commentaire sur les évaluations Q2 de l'UE
Sans objet
Types d'évaluation Q3 pour l'UE
Commentaire sur les évaluations Q3 de l'UE
Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.
Types d'évaluation rattrapage BAB1 (Q1) pour l'UE
Commentaire sur les évaluations rattr. Q1 de l'UE
Sans objet
Types d'activités
AA | Types d'activités |
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I-META-025 |
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S-CHIM-120 |
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Mode d'enseignement
AA | Mode d'enseignement |
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I-META-025 |
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S-CHIM-120 |
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Supports principaux
AA | Supports principaux |
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I-META-025 | |
S-CHIM-120 |
Supports principaux non reproductibles
AA | Supports principaux non reproductibles |
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I-META-025 | Transparents contenant les figures à disposition. |
S-CHIM-120 | Transparents contenant les figures à disposition |
Supports complémentaires
AA | Supports complémentaires |
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I-META-025 | |
S-CHIM-120 |
Supports complémentaires non reproductibles
AA | Support complémentaires non reproductibles |
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I-META-025 | Sans objet |
S-CHIM-120 | Sans objet |
Autres références conseillées
AA | Autres références conseillées |
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I-META-025 | B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press Les nanotechnologies, M. Wautelet, Dunod, 2007 G. L. Horniak, J. Dutta, H. F. Tibals and A. K. Rao, Introduction to nanoscience, CRC Press, 2008. |
S-CHIM-120 | B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press |