Programme d’études 2019-2020English
Technologie plasma pour le traitement des matériaux
Unité d’enseignement du programme de Master en sciences physiques à la Faculté des Sciences

Les étudiants sont invités à consulter les fiches ECTS des AA pour prendre connaissance des modalités d’évaluation prévues pour la fin du Q3

CodeTypeResponsable Coordonnées
du service
Enseignant(s)
US-M1-SCPHYS-019-MUE optionnelleSNYDERS RonyS882 - Chimie des Interactions Plasma-Surface
  • SNYDERS Rony

Langue
d’enseignement
Langue
d’évaluation
HT(*) HTPE(*) HTPS(*) HR(*) HD(*) CréditsPondération Période
d’enseignement
  • Français
Français150150033.001er quadrimestre

Code(s) d’AAActivité(s) d’apprentissage (AA) HT(*) HTPE(*) HTPS(*) HR(*) HD(*) Période
d’enseignement
Pondération
S-CHIM-120Technologie plasma pour le traitement des matériaux (Partie A)1501500Q1100.00%

Unité d'enseignement

Objectifs par rapport aux acquis d'apprentissage du programme

  • Maîtriser des connaissances spécialisées
    • -Avoir développé les connaissances et compétences acquises lors du cycle précédent à un niveau qui s'étend au-delà du niveau de bachelier en physique, et qui fournit la base pour l'élaboration et l'application d'idées originales dans un contexte professionnel.
    • -Avoir atteint un niveau de connaissances et de compétences qui leur donnera accès au troisième cycle du programme d'études (uniquement pour le master en deux ans).
  • Avoir une démarche scientifique rigoureuse et créatrice
    • -Avoir la capacité de recueillir et d'interpréter des données scientifiques pertinentes et de les analyser de manière critique en distinguant les hypothèses de travail des faits avérés.
    • -Avoir la capacité d'appliquer leurs connaissances, leur compréhension, leur capacité à résoudre des problèmes, dans des environnements nouveaux ou non familiers et dans des contextes multidisciplinaires liés aux sciences physiques.

Acquis d'apprentissage UE

A l'issu du cours l'étudiant sera capable de: - Décrire les spécificités des plasma froids - Décrire le fonctionnement d'une décharge magnétron - Décrire le fonctionnement d'un procédé PECVD - Expliquer les mécanismes mis en jeu lors de la synthèse de films minces par les technologies plasma

Contenu de l'UE

Description du milieu plasma, caractéristiques des plasmas froids, pulvérisation magnétron (réactive), méthodes impulsionnelles, procédés PECVD, cas de la polymérisation plasma, croissance de films minces

Compétences préalables

Théorie cinétique des gaz, électricité, structure de l'atome, distributions statistiques, spectre électromagnétique, phénomène de diffusion, structure cristalline des solides, caractérisation spectroscopique des surfaces

Types d'évaluations Q1 pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations Q1 de l'UE

Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.

Types d'évaluation Q3 pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations Q3 de l'UE

Préparation des questions par écrit en utilisant le cours. Lecture et discussion autour d'un article de recherche en relation avec le cours.

Types d'évaluation rattrapage BAB1 (Q1) pour l'UE

  • Présentation et/ou travaux
  • Examen oral

Commentaire sur les évaluations rattr. Q1 de l'UE

Sans objet

Types d'activités

AATypes d'activités
S-CHIM-120
  • Cours magistraux
  • Conférences
  • Préparations, travaux, recherches d'information

Mode d'enseignement

AAMode d'enseignement
S-CHIM-120
  • Face à face

Supports principaux

AA
S-CHIM-120

Supports principaux non reproductibles

AASupports principaux non reproductibles
S-CHIM-120Transparents contenant les figures à disposition

Supports complémentaires

AA
S-CHIM-120

Supports complémentaires non reproductibles

AASupport complémentaires non reproductibles
S-CHIM-120Sans objet

Autres références conseillées

AAAutres références conseillées
S-CHIM-120B. Chapman, Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, Wiley & Sons D. L. Smith, Thin Films Deposition, McGraw-Hill, Inc. M. Ohring, Materials Sciences of Thin Films, Academic Press

Reports des notes d'AA d'une année à l'autre

AAReports des notes d'AA d'une année à l'autre
S-CHIM-120Non autorisé
(*) HT : Heures théoriques - HTPE : Heures de travaux pratiques encadrés - HTPS : Heures de travaux pratiques supervisés - HD : Heures diverses - HR : Heures de remédiation - Dans la colonne Pér. (Période), A=Année, Q1=1er quadrimestre et Q2=2e quadrimestre
Date de génération : 13/07/2020
20, place du Parc, B7000 Mons - Belgique
Tél: +32 (0)65 373111
Courriel: info.mons@umons.ac.be